证券时报e公司讯，苏大维格(300331)在互动平台默示，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV开辟，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量坐蓐，这类光刻机技能工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于径直将数据转酿成联系图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具终点他微结构的制备。公司永恒从事光刻机的研制，光刻机达成了从私用到销售给国表里科研院所，再到销售给联系企业的发展旅途。当今，公司对外售售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研证据注解界限具有一定的闻名度和阛阓占有率，在其他行业和界限已达成的销售金额相对较小，部分哄骗界限离国外先进水平具有一定差距，需要合手续的研发参加；纳米压印光刻界限，公司开辟主要为私用，对外售售金额与直写光刻机比拟较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻开辟，拟哄骗于光伏电镀铜图形化界限，当今尚未达成销售。

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